Sputtering Target

Sirkon snúnings sputtering Targets

Zirconium Rotary Sputtering Targets Lýsing Zirconium Rotary Sputtering Targets eru gerðar úr hár hreinleika sirkon efni eftir röð af vinnslu, með sérstakri hár hreinleika sirkon efni stærð og lögun,

Bæta við fyrirspurn
Sirkon 702 planar markmið

Zirconium 702 Planar Target Description Zirconium er málmþáttur með framúrskarandi tæringarþol, hátt bræðslumark og góða vélræna eiginleika, sem gerir það gagnlegt í margs konar notkun, þar með talið

Bæta við fyrirspurn
Sirkon 702 kringlótt skotmark

Zirconium 702 Round Target Description Sirconium er gljáandi gráhvítur sterkur umbreytingarmálmur sem er mikið notaður í kjarnorkuiðnaðinum og geimferðum. Zirconium 702 Round Target er oft búið til

Bæta við fyrirspurn
99,95% sirkon sputter targets

99,95% Zirconium Sputter Targets Lýsing Magnetron sputtering er ný eðlisfræðileg gufuhúðunaraðferð, sem notar rafeindabyssukerfi til að gefa frá sér rafeindir og einbeita sér að efnið sem á að húða,

Bæta við fyrirspurn
Háhreint títanmarkmið

High Purity Titanium Targets Lýsing Títan er parasegulmagnaðir eldföst málmur með sterka seigju og mikinn styrk, sérstaklega í súrefnislausu umhverfi. Fyrir skotmörk, því meiri sem efnafræðilegur

Bæta við fyrirspurn
High Purity Chromium Sputter Target

High Purity Chromium Sputter Marklýsing Króm er stálgrár, glansandi, harður og brothættur umbreytingarmálmur. High Purity Chromium Sputter Target er almennt framleitt með því að nota lofttæmisbræðslu

Bæta við fyrirspurn
99,5% bórsputtunarmarkmið

99,5% bórúðunarmarkmið Lýsing Húðunarmarkmiðið er sputtering uppspretta sem myndar ýmsar starfhæfar filmur á undirlaginu með því að sputtera við viðeigandi vinnsluaðstæður í gegnum segulstrúðun,

Bæta við fyrirspurn
Mólýbden (Mo) sputtering Targets

Mólýbden (Mo) sputtering markmið Lýsing Sem háþróaða þunnfilmu efni undirbúnings tækni, sputtering hefur tvo eiginleika: háhraði og ofur-lágt hitastig. Mólýbden (Mo) sputtering Targets eru föst efni

Bæta við fyrirspurn
Títan málmmarkmið

Titanium Metal Target Lýsing Titanium Metal Target er aðallega framleitt með rafeindageislakælingu bræðsluaðferðinni. Það hefur mikinn hreinleika, mikinn sérstyrk, góða hörku í súrefnislausu

Bæta við fyrirspurn
Nikkel málm sputtering skotmörk

Nikkel málm sputtering markmið Lýsing Í iðnaði er nikkel almennt notað í álblöndu, framleiðslu rafhlöðu og sem hvati. Sérstaklega á sviði markefna er nikkel mikið notað vegna framúrskarandi eðlis- og

Bæta við fyrirspurn
Króm málm sputter skotmörk

Krómmálmspútmarkmið Lýsing Króm hefur hátt bræðslumark og góða oxunarþol, sem gerir krómmarkmiðinu kleift að haldast stöðugt í háhitaumhverfi. Að auki gefa rafeindageislaútfelling og

Bæta við fyrirspurn
TiAl títan álfelgur sputtering Target

TiAl Titanium Alloy Sputtering Markmið Lýsing Sputtering target vísar til hráefnisins sem notað er í sputtering útfellingarferlinu. Það vísar til þess ferlis þar sem frumeindir kastast út úr föstu

Bæta við fyrirspurn

Við erum vel þekkt sem einn af leiðandi framleiðendum og birgjum sputteringsmarkmiða í Kína. Ef þú ætlar að kaupa hágæða sputtering markmið með samkeppnishæfu verði, velkomið að fá tilvitnun í verksmiðju okkar. Einnig er sérsniðin þjónusta í boði.

(0/10)