Sputtering Target

Volfram hringlaga sputtering skotmörk

Volfram hringlaga sputtering markmið Lýsing Volfram, sem almennt notað markefni, gegnir lykilhlutverki í röntgenrörum. Hitastig bakskautsins er um 2000K. Rafeindunum sem losnar er hraðað um

Bæta við fyrirspurn
Háhreinleiki Tungsten hringlaga skotmörk

High Purity Tungsten Round Targets Lýsing High Purity Tungsten Round Targets eru algengustu markefnin í samanburði við beryllíum glugga. Þeir hafa háa atómstuðla, hátt bræðslumark, góða hitaleiðni,

Bæta við fyrirspurn
PVD 4N Nikkel Sputtering Target

PVD 4N Nikkel Sputtering Target Lýsing PVD 4N Nickel Sputtering Target er skotmark úr háhreinu nikkelefni fyrir PVD tækni, sem gerir kleift að ná þunnum filmum með framúrskarandi leiðni og

Bæta við fyrirspurn
Títan ál kringlótt skotmörk

Títan Ál Round Targets Lýsing Títan Aluminium Round Targets eru almennt notuð málm skotmörk fyrir tómarúm húðun. Hægt er að fá mismunandi eiginleika með því að blanda saman innihaldi títan og áls.

Bæta við fyrirspurn
Háhreinleika bórmarkmið

Háhreinleiki bórmarkmiða Eiginleikar og notkun Húðunarmarkmiðið er sputtering uppspretta sem myndar ýmsar virkar filmur á undirlaginu með segulrónu sputtering, multi-boga jónahúðun eða öðrum gerðum

Bæta við fyrirspurn
99,99% Nikkelhring markmið

99,99% Nikkel Round Target Lýsing Sputtering Target vísar til hráefnisins sem notað er í sputtering útfellingarferlinu. Það vísar til þess ferlis þar sem atómum er kastað frá föstu markmiði vegna

Bæta við fyrirspurn
Pure Nikkel Metal Target

Hreint nikkelmálmur Marklýsing Nikkel er silfurhvítur málmur með segulmagnaðir eiginleikar og góða mýkt, aðallega notað í málmblöndur (eins og nikkelstál og nikkelsilfur) og sem vetnunarhvati. Pure

Bæta við fyrirspurn
Nikkel Ni sputtering Target

Nickel Ni Sputtering Target Features & Application Nickel is a silver-white metallic element with good ductility, toughness and high melting point. In industry, nickel is commonly used in alloy

Bæta við fyrirspurn
99,99% nikkel sputtering markmið

99,99% Nikkel Sputtering Targets Lýsing Markefnið er efnið sem notað er sem uppspretta sputtering eða uppgufun í ferli líkamlegrar gufuútfellingar (PVD) eða efnagufuútfellingar (CVD), og hreinleiki

Bæta við fyrirspurn
High Purity 4N Nikkel Sputter Target

High Purity 4N Nikkel Sputter Target Lýsing High Purity 4N Nikkel Sputter Target er gert úr háhreinu nikkelefni eftir duftmálmvinnslu og smíða fægja. Það er hægt að útbúa með sputtering,

Bæta við fyrirspurn
Króm snúnings sputter Target

Króm snúningssputter Marklýsing Króm hefur góða oxunarþol og tæringarþol og getur myndað stöðuga oxíðfilmu í náttúrulegu umhverfi til að vernda málminn gegn frekari tæringu. Chromium Rotary Sputter

Bæta við fyrirspurn
Sirkon 702 kringlótt sputtering Target

Zirconium 702 Round sputtering Marklýsing Lýsing á þunnfilmuútfellingu (húðun) er ferlið við að mynda og setja þunn filmuhúð á undirlagsefni sem hægt er að nota til að breyta eða bæta ákveðna þætti í

Bæta við fyrirspurn

Við erum vel þekkt sem einn af leiðandi framleiðendum og birgjum sputteringsmarkmiða í Kína. Ef þú ætlar að kaupa hágæða sputtering markmið með samkeppnishæfu verði, velkomið að fá tilvitnun í verksmiðju okkar. Einnig er sérsniðin þjónusta í boði.

(0/10)