Sputtering Target

Títan Króm Metal Sputter Target

Títan Króm Metal Sputter Marklýsing Títan-króm álfelgur, einnig þekktur sem títan-ál-króm álfelgur, er títan álfelgur af gerðinni. Því hærra sem króminnihaldið er, því hærra er höggþol og tæringarþol

Bæta við fyrirspurn
Króm sputter Target

Chromium Sputter Target Description Króm er einn vinsælasti málmur í heimi. Vörur úr krómi geta verið mikið notaðar á ýmsum tækni- og iðnaðarsviðum, svo sem rétthyrndum skotmörkum, úðamarkmiðum,

Bæta við fyrirspurn
Króm málm sputtering Target

Eiginleikar og notkun krómmálmspúttunar Króm er stálgrár, glansandi, harður og brothættur umbreytingarmálmur, aðalnotkun hans er til að búa til málmblöndur, svo sem ryðfríu stáli, krómhúðun og

Bæta við fyrirspurn
Boron sputter Target

Boron sputter Target Application. Málmbór hefur margs konar notkun og er hægt að nota sem hvata í keramikiðnaði og lífrænni myndun, sem háorkueldsneyti í föst eldflaugadrifefni, sem framleiðsluefni

Bæta við fyrirspurn
Bór sputtering Target

Bór sputtering Marklýsing Lýsing sputtering ferlið er aðallega til að setja þunnri filmu af ofurhreinleika sputtered málmi eða oxíð efni á annað fast undirlag, og stjórna fjarlægingu og umbreytingu

Bæta við fyrirspurn
Háhreinleika króm sputtering Target

High Purity Chromium Sputtering Marklýsing Krómmálmur er mjög metinn fyrir mikla tæringarþol og hörku og með því að bæta málmkrómi í ryðfríu stáli er hægt að gera stál mjög ónæmt fyrir tæringu og

Bæta við fyrirspurn
Nikkel Króm Rotary Sputtering Target

Nikkel Króm snúnings sputtering Target Lýsing Nikkel Króm snúnings sputtering Targets eru almennt gerðar með bræðslu og steypu, eftir þriggja laga rafgreiningarferli, auk röð af vélrænni vinnslu eins

Bæta við fyrirspurn
AISi álfelgur sputtering Target

AISi Alloy Sputtering Target Lýsing Sputtering target er mikilvægasta hráefnið í húðunarfilmuútfellingartækni, sem hefur miklar kröfur um stærð, flatleika, sléttleika, þéttleika og óhreinindi. AISi

Bæta við fyrirspurn
Ál kísilblendi sputtering Target

Ál kísilblendi sputtering Markeiginleikar: Sputtering er húðunarferli sem framkvæmt er í lofttæmi. Gæði sputtering efnisins ákvarðar endingartíma og gæði filmunnar. Sputtering Target úr áli

Bæta við fyrirspurn
Títan Ál (Ti-Al) Sputtering Target

Títan ál (Ti-Al) málmblöndur sputter Mark Lýsing Meginhlutverk sputtering markmiðsins er að setja þétta filmu á vinnustykkið til að bæta slitþol og endingartíma vinnustykkisins. Það eru tvær aðferðir

Bæta við fyrirspurn
Títan Ál Sputtering Target

Títan ál sputter Target Lýsing Í samanburði við venjulegt bræðsluferli, er Titanium Aluminium Sputter Target almennt framleitt með heitu isostatic pressuferli, sem hefur minni kornastærð og

Bæta við fyrirspurn
Títan ál sputtering Target

FANMETAL útvegar Ti-Al ál títan ál sputtering skotmarkið sem notað er í PVD húðunarkerfi. Við bjóðum einnig upp á önnur málmamarkmið og uppgufunarefni með háum hreinleika 99,9999 prósent, góðmálmmark

Bæta við fyrirspurn

Við erum vel þekkt sem einn af leiðandi framleiðendum og birgjum sputteringsmarkmiða í Kína. Ef þú ætlar að kaupa hágæða sputtering markmið með samkeppnishæfu verði, velkomið að fá tilvitnun í verksmiðju okkar. Einnig er sérsniðin þjónusta í boði.

(0/10)