Títan Ál Sputter Targets

Títan Ál Sputter Targets Lýsing

Magnetron sputtering tækni er ein af lykiltækni til að undirbúa þunn filmu efni og málm sputtering markið er lykilefnið í sputtering ferlinu. Titanium Aluminum Sputter Targets hefur framúrskarandi eiginleika málmtítan og málmáls, svo sem mikil sveigjanleiki, mikil slitþol, framúrskarandi raf- og varmaleiðni, ákjósanlegur örbyggingu, góð ending, ætingarafköst og vinnsluárangur Góð, góð tenging við undirlagið, osfrv. Títan ál sputter Targets geta sprautað harða og oxunarþolna nítríð húðun (TiAlN) á bora, skera, vísitöluhæf skurðinnlegg og önnur verkfæri og bætt fóðurhraða, skurðafköst og endingartíma vinnsluverkfæra. Titanium Aluminum Sputter Targets framleiðir einnig lím- og lokunarlög í samþættum hringrásum, skreytingarhúðun fyrir rafeindatæki (svo sem skífur fyrir farsíma, flatskjái eða lúxusúr) og glerhúðun fyrir bílaiðnaðinn.

Títan ál sputter Targets Upplýsingar:

Myndir af títan áli sputter Targets:

maq per Qat: títan ál sputter markmið, birgjar, framleiðendur, verksmiðja, sérsniðin, heildsölu, verð, tilboð, til sölu