Nikkel Króm Rotary Sputtering Target

Nikkel Króm Rotary Sputtering Target Target Description

Nikkel króm snúnings sputtering Targets eru almennt gerðar með bræðslu og steypu, eftir þriggja laga rafgreiningarferli, auk röð af vélrænni vinnslu eins og mala, rennibekk, veltingur og skurður, með hreinleika á bilinu 99,5 prósent til 99,99 prósent. Þunnar filmur sprottnar af Nikkel Króm snúningssputtering Targets hafa lágt hitastig, mikla viðnám, háan næmistuðul, mikla raf- og hitaleiðni, framúrskarandi oxunarþol, einsleita örbyggingu, slétt yfirborð án svitahola og góða endingu, o.s.frv. , það hefur betri eðlisfræðilega og efnafræðilega eiginleika. Í PVD eða CVD húðunariðnaðinum eru Nikkel Chromium Rotary Sputtering Targets og kvikmyndir þess mikið notaðar í yfirborðsstyrkjandi kvikmyndum eins og slitþol, slitminnkun, hitaþol og tæringarþol, svo og gler með lágu losun, örraeindatækni, segulmagnaðir upptökur. , hálfleiðara og þunnfilmuviðnám og önnur hátækniiðnaður.

Nikkel Króm Rotary Sputtering Target Tæknilýsing:

Nikkel króm snúnings sputtering markmyndir:

maq per Qat: nikkel króm snúnings sputtering mark, birgjar, framleiðendur, verksmiðja, sérsniðin, heildsölu, verð, tilboð, til sölu