Kopar sputtering Target

Kopar sputtering Target Description & Application

Sputtering markmið eru sérstakur flokkur efna sem eru aðallega notaðar í þunnfilmuhúðunar- og lofttæmihúðunariðnaðinum. Copper Sputtering Target er vara úr háhreinum koparmálmi sem er unnin með röð ferla (svo sem útpressun, teikning, hitameðferð og vinnsla osfrv.), og hefur marga framúrskarandi eiginleika, svo sem hár hreinleika, lágt verð, rafmagns og hitaleiðni Sterk, mikil framleiðsluskilvirkni og langur endingartími. Kopar sputtering Target má skipta í flatt kopar sputtering target (hringlaga eða ferningur) og snúnings kopar sputtering target (venjulega pípulaga), og stærðarstaðallinn er ákvarðaður í samræmi við raunverulega notkun eða kröfur viðskiptavina. Koparsputtering Targets er ákjósanlegt sputtering efni, hentugur fyrir DC tvískauta sputtering, þrípóla sputtering, quadrupole sputtering, jóngeisla sputtering eða magnetron sputtering, o. hringrásir og skjáir osfrv.

Kopar sputtering TargetTæknilýsing:

Kopar sputtering Target Myndir:

maq per Qat: kopar sputtering markmið, birgjar, framleiðendur, verksmiðja, sérsniðin, heildsölu, verð, tilvitnun, til sölu