Húðunarmarkmiðið er sputtering uppspretta sem myndar ýmsar starfhæfar filmur á undirlaginu með sputtering við viðeigandi vinnsluaðstæður í gegnum segulsviða sputtering, multi-boga jónahúðun eða aðrar gerðir húðunarkerfa. FANMETAL getur útvegað ýmis málmhúðunarmarkmið eins og99,95% sirkon sputter targets, Háhreinleika krómspúttarmiðaeða 99,5% bórsputtering Targets. Velkomið að hafa samband við okkur með tölvupósti.
1. Skreytishúð
Skreytishúð vísar aðallega til yfirborðshúðunar farsíma, úra, gleraugu, hreinlætistækja, vélbúnaðarhluta og annarra vara. Það hefur ekki aðeins áhrif á að fegra litinn, heldur hefur það einnig hlutverk slitþols og tæringarþols. Helstu tegundir skotmarka fyrir skreytingarhúðun eru: króm (Cr) mark, títan (Ti) mark, sirkon (Zr), nikkel (Ni), wolfram (W), títan ál (TiAl), ryðfrítt stál skot osfrv.
2. Verkfæri og moldhúðun
Það er aðallega notað til að styrkja útlit vinnsluverkfæra, sem getur verulega bætt endingartíma móta og gæði unnar hluta. Samkvæmt tölfræði hefur húðunarhlutfall vinnsluverkfæra í þróuðum löndum farið yfir 90%. Hlutfall verkfærahúðunar í okkar landi eykst einnig stöðugt og eftirspurn eftir markefnum fyrir verkfærahúð eykst dag frá degi. Helstu gerðir eru: TiAl target, króm ál (CrAl) target, Cr target, Ti target o.fl.
3. Hlífðarhúð
Það er aðallega borið á undirlagið til að vernda og lengja endingartíma þess. Hlífðarfilmur innihalda tæringarfilmur, smurfilmur og varmahlífðarfilmur. TiC sputtered filmur og BN sputtered filmur eru oft notaðar sem hár hörku húðun í klippa og mala verkfæri.
4. Rafmagnshúðun
Sputtering markmið er hægt að nota til að framleiða leiðandi efni og díselfilmur, ofurleiðandi filmur og ITO filmur í hálfleiðaratækjum og samþættum hringrásum.
5.Sólar frumu húðun
Eins og er hafa sólarsellur verið þróaðar í margar kynslóðir. Sú fyrsta eru einkristallaðar sílikon sólarfrumur, önnur kynslóðin er myndlaus sílikon og fjölkristallaðar sílikon sólarfrumur og þriðja kynslóðin eru þunnfilmu sólarfrumur. Sputtering húðunarferlið er að útbúa kadmíumtellúríð (CdTe) filmu, koparindíum gallíum seleníð (CIGS) filmu og arsenik Algengasta aðferðin fyrir gallíumklóríð (GaAs) þunnar filmur. CIGS sputtering target er sputtering target táknað með sólarorkunotkun. Það er samsett úr fjórum málmþáttum, nefnilega kopar (Cu), indíum (In), gallíum (Ga) og selen (Se). Sputtered CIGS filman á sólarsellunni hefur kosti þess að vera sterkur ljósgleypni, góður orkuöflunarstöðugleiki og mikil umbreytingarvirkni. Það getur orðið til þess að sólarsellan framleiðir rafmagn í langan tíma á daginn og framleiðir mikið magn af rafmagni. Meðan á húðunarferlinu stendur mun hreinleiki og gæði CIGS sputteringsmarkmiðsins hafa bein áhrif á gæði kvikmyndarinnar sem framleidd er.
